由湖北省科技投资集团有限公司建设的光谷科创文化广场项目坐落于武汉市东湖新技术开发区高新大道与光谷三路交汇处，项目主体及精装工程合计总投资约28.35亿元，总建筑面积约26万㎡，其中地下两层建筑面积约8.9万㎡，地上建筑面积约17.1万㎡，项目秉承光谷创新基因，坚持“光谷文化服务复合体”定位，是光谷公共文化服务的体系化平台、是特色创新文化新空间的集群。
该项目四栋主体建筑以架空平台相联系，利用场地高差设置共享层、标准泳池、共享餐厅、地下停车等配套功能，提供共融的文化服务设施并串联起各场馆。截至目前，光谷文化中心项目1-3号楼三栋结构已封顶，现全面施工外立面幕墙，4号楼5层核心筒结构施工完成，现施工3-5层钢结构转换层。该项目已获得美国缪斯设计奖金奖、武汉建筑业“BIM+”智能建造应用大赛金奖，并计划取得楚天杯、鲁班奖两大奖项，力争将该项目打造为促进文化交流的城市公共空间，体现绿色环保、智慧高效、符合光谷文化发展特征及武汉市人文自然特征的地域文化建筑，成为光谷乃至武汉东南片区一张亮丽的城市名片。
